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176Hf（n，2n）175Hf反应截面测量 Hf 反应截面相对测量 2011/8/17

采用相对测量技术，以活化法对13.4～14.8 MeV范围内的176Hf(n，2n)175Hf反应截面进行了测量。样品固定在距离D-T中子源20 cm处的圆环的不同位置上进行中子辐照，采用93Nb(n，2n)92Nbm作为监测反应，活化产物采用高纯锗探测器进行了测量，所得14 MeV附近的176Hf(n，2n)175Hf反应截面实验值为（2 100±85）mb，对实验结果与公开文献值和ENDF/B...